全球光掩模市場規模、份額和趨勢分析報告—產業概況和2032年預測

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全球光掩模市場規模、份額和趨勢分析報告—產業概況和2032年預測

  • Semiconductors and Electronics
  • Upcoming Report
  • Jan 2025
  • Global
  • 350 页面
  • 桌子數: 220
  • 图号: 60

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供应链生态系统分析现已成为 DBMR 报告的一部分

Global Photomask Market

市场规模(十亿美元)

CAGR :  % Diagram

Chart Image USD 5.00 Billion USD 6.53 Billion 2024 2032
Diagram Forecast Period
2025 –2032
Diagram Market Size (Base Year)
USD 5.00 Billion
Diagram Market Size (Forecast Year)
USD 6.53 Billion
Diagram CAGR
%
Diagram Major Markets Players
  • Applied Materials
  • SKElectronics
  • Toppan Photomasks
  • Photronics
  • LG INNOTEK

全球光掩模市場細分,按產品類型(石英掩模、鈉掩模、凸版、薄膜)、掩模車間類型(固定掩模、商用掩模)、應用(光學設備、分立元件、顯示器、MEMS、其他)、最終用戶(半導體、平板顯示器、觸控產業、電路板)– 行業趨勢和預測到 2032 年

光掩模市場

光掩模市場分析

2018年,網路普及率達40.21億,較去年成長7%;社群媒體用戶規模達31.96億,較去年成長13%;手機用戶規模達51.35億,較去年同期成長4%。此外,亞洲企業改進了電子設備生產技術,使亞太地區成為光掩模市場成長的主要中心。所有電子設備都含有半導體。電子和半導體需求的不斷增長進一步增強了市場對光掩模的需求。

光掩模市場規模

2024 年全球光罩市場規模為 50 億美元,預計到 2032 年將達到 65.3 億美元,2025 年至 2032 年預測期內的複合年增長率為 3.40%。

報告範圍和市場細分       

屬性

光掩模關鍵市場洞察

分割

  • 依產品類型:石英掩模、蘇打掩模、凸版、薄膜
  • 依面具商店類型:俘虜面具、商人面具
  • 依應用:光學設備、分立元件、顯示器、MEMS、其他
  • 按最終用戶:半導體、平面顯示器、觸控產業、電路板

覆蓋國家

北美洲的美國、加拿大和墨西哥、德國、法國、英國、荷蘭、瑞士、比利時、俄羅斯、義大利、西班牙、土耳其、歐洲其他地區、中國、日本、印度、韓國、新加坡、馬來西亞、澳洲、泰國、印尼、菲律賓、亞太地區 (APAC) 的其他地區、沙烏地阿拉伯、阿聯酋、南非、埃及、以色列、中東和非洲 (MEA) 的其他地區、其他地區的歐洲地區

主要市場參與者

Applied Materials, Inc. (US), SK-Electronics Co., Ltd. (Japan), Toppan Photomasks (US), Photronics, Inc. (US), LG INNOTEK (South Korea), Compugraphics (US), Toppan Chunghwa Electronics Corporation (Taiwan), Infinite Graphics Incorporated (US), NIPPON FILCON CO., LTD. (Japan), Plasma-Therm (US), HOYA Corporation (Japan), Lasertec Corporation (Japan), KLA Corporation (US), PKL Services, Inc. (US), Mycronic (Sweden), Compugraphics a MacDermid Alpha Electronics Solutions brand (US), Taiwan Photomask Co., Ltd. (Taiwan), Qingyi Photomask Limited (China)

Market Opportunities

  • Increase in the number of emerging markets
  • Rising sale of vehicle
  • Technological advancement
  • Rise in strategic collaborations

Photomask Market Definition

Photomasks are image-transfer tools that are created by exposing or writing a pattern onto a resist-coated chrome blank device. They are made up of solid, transparent substrates with an opaque surface covering. They come in a variety of varieties and are used in a variety of applications, including microlithography and integrated circuits (ICs). Photomasks are increasingly commonly used for correctly transferring patterns to silicon wafers as transistors become smaller and more advanced.

Photomask Market Dynamics

This section deals with understanding the market drivers, advantages, opportunities, restraints and challenges. All of this is discussed in detail as below:

Drivers

  • Rising Demand for Consumer Electronics

Semiconductors are critical components in modern electronics manufacture. This, together with the rising demand for consumer devices such as smartphones, notebooks, and wearables, is one of the key drivers of market expansion.

  • Growing Demand for Fast Computing Memories and Processors

Optical devices, electro-optical devices, hybrid circuits, resistor networks, liquid crystal displays (LCDs), and microelectromechanical systems all use photomasks to some extent (MEMS). This, together with increased demand for rapid processing memory and processors, is fueling market expansion.

Furthermore, increasing level of disposable income and growing urbanization will drive market value growth. The market is being fueled by the growing internet penetration and emerging trend of automation in industrial processes. The rising number of applications in healthcare and defense and military sector are expected to boost their use of photomask as a result of the increasing trend of sustainable printing.

Opportunities

  • Rising sale of vehicle

Boosting sale of vehicle coupled with growing focus on improving communication and safety systems will cushion the market’s growth rate in coming years. Along with this, the surging technological advancement will boost new market opportunities for the market’s growth rate.

Moreover, rise in strategic collaborations and emerging new markets will act as market drivers and further boost beneficial opportunities for the market’s growth rate.

Restraints/ Challenges

然而,全球金融不確定性和宏觀經濟情勢(包括貨幣兌換和經濟問題)將阻礙光掩模市場的成長率。 COVID-19疫情對供應鏈的負面影響將對市場成長率構成重大挑戰。半導體積體電路尺寸不斷縮小和技術限制是影響光掩模市場成長的主要限制因素。  

本光掩模市場報告提供了最新發展、貿易法規、進出口分析、生產分析、價值鏈優化、市場份額、國內和本地化市場參與者的影響的詳細信息,分析了新興收入領域的機會、市場法規的變化、戰略市場增長分析、市場規模、類別市場增長、應用領域和主導地位、產品批准、產品發布、地理擴展、市場技術創新。要獲取有關光掩模市場的更多信息,請聯繫 Data Bridge Market Research 獲取 分析師簡報,我們的團隊將幫助您做出明智的市場決策,實現市場成長。

光掩模市場範圍

光掩模市場根據產品類型、掩模車間類型、應用和最終用戶進行細分。這些細分市場之間的成長將幫助您分析行業中成長微弱的細分市場,並為用戶提供有價值的市場概覽和市場洞察,幫助他們做出策略決策,確定核心市場應用。

產品類型

  • 石英掩模
  • 蘇打麵膜
  • 凸版印刷
  • 電影

面膜店類型

  • 俘虜面具
  • 商家面具

應用

最終用戶

光掩模市場區域分析

對光掩模市場進行了分析,並根據上述國家、產品類型、掩模店類型、應用和最終用戶提供了市場規模洞察和趨勢。

光掩模市場報告涉及的國家有:北美的美國、加拿大和墨西哥,歐洲的德國、法國、英國、荷蘭、瑞士、比利時、俄羅斯、義大利、西班牙、土耳其,歐洲其他地區,中國、日本、印度、韓國、新加坡、馬來西亞、澳洲、泰國、印尼、菲律賓,亞太地區(APAC)的其他地區,沙烏地阿拉伯、阿聯酋的其他地區,埃及、英國的其他地區、其他地區的非洲歐洲地區(其他國家:美國歐洲地區和非洲歐洲地區的其他地區,其他國家(其他國家:非洲歐洲國家聯盟,其他非洲非洲國家,以及其他非洲裔,

亞太地區在市場份額和市場收入方面佔據光掩模市場的主導地位,並將在預測期內繼續保持其主導地位。這是因為該地區存在主要的關鍵參與者。此外,半導體產業對光掩模的需求和消費不斷增加將推動該地區市場的成長率。 

在預測期內,由於歐洲電子和半導體產業對先進光掩模的採用激增,預計歐洲將成為發展最快的地區。

報告的國家部分還提供了影響市場當前和未來趨勢的個別市場影響因素和市場監管變化。下游和上游價值鏈分析、技術趨勢和波特五力分析、案例研究等數據點是用於預測各國市場情景的一些指標。此外,在對國家數據進行預測分析時,還考慮了全球品牌的存在和可用性及其因來自本地和國內品牌的大量或稀缺的競爭而面臨的挑戰、國內關稅和貿易路線的影響。   

光掩模市場佔有率

光掩模市場競爭格局提供了競爭對手的詳細資訊。詳細資訊包括公司概況、公司財務狀況、收入、市場潛力、研發投資、新市場計劃、全球影響力、生產基地和設施、生產能力、公司優勢和劣勢、產品發布、產品寬度和廣度、應用優勢。以上提供的數據點僅與公司對光掩模市場的關注有關。

在市場上運作的光掩模市場領導者有:

  • 應用材料公司(美國)
  • SK電子有限公司(日本)
  • Toppan Photomasks(美國)
  • Photronics, Inc.(美國)
  • LG INNOTEK(韓國)
  • Compugraphics(美國)
  • 中華凸版電子股份有限公司(台灣)
  • Infinite Graphics Incorporated(美國)
  • 日本菲爾康株式會社(日本)
  • Plasma-Therm(美國)
  • 豪雅株式會社(日本)
  • Lasertec株式會社(日本)
  • KLA公司(美國)
  • PKL Services, Inc.(美國)
  • Mycronic(瑞典)
  • MacDermid Alpha Electronics Solutions(美國)
  • 台灣光罩股份有限公司 (中國台灣地區)
  • 青益光罩有限公司 (中國)      


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研究方法

数据收集和基准年分析是使用具有大样本量的数据收集模块完成的。该阶段包括通过各种来源和策略获取市场信息或相关数据。它包括提前检查和规划从过去获得的所有数据。它同样包括检查不同信息源中出现的信息不一致。使用市场统计和连贯模型分析和估计市场数据。此外,市场份额分析和关键趋势分析是市场报告中的主要成功因素。要了解更多信息,请请求分析师致电或下拉您的询问。

DBMR 研究团队使用的关键研究方法是数据三角测量,其中包括数据挖掘、数据变量对市场影响的分析和主要(行业专家)验证。数据模型包括供应商定位网格、市场时间线分析、市场概览和指南、公司定位网格、专利分析、定价分析、公司市场份额分析、测量标准、全球与区域和供应商份额分析。要了解有关研究方法的更多信息,请向我们的行业专家咨询。

可定制

Data Bridge Market Research 是高级形成性研究领域的领导者。我们为向现有和新客户提供符合其目标的数据和分析而感到自豪。报告可定制,包括目标品牌的价格趋势分析、了解其他国家的市场(索取国家列表)、临床试验结果数据、文献综述、翻新市场和产品基础分析。目标竞争对手的市场分析可以从基于技术的分析到市场组合策略进行分析。我们可以按照您所需的格式和数据样式添加您需要的任意数量的竞争对手数据。我们的分析师团队还可以为您提供原始 Excel 文件数据透视表(事实手册)中的数据,或者可以帮助您根据报告中的数据集创建演示文稿。

Frequently Asked Questions

市场是基于 全球光掩模市場細分,按產品類型(石英掩模、鈉掩模、凸版、薄膜)、掩模車間類型(固定掩模、商用掩模)、應用(光學設備、分立元件、顯示器、MEMS、其他)、最終用戶(半導體、平板顯示器、觸控產業、電路板)– 行業趨勢和預測到 2032 年 进行细分的。
在2024年,全球光掩模市場的规模估计为5.00 USD Billion美元。
全球光掩模市場预计将在2025年至2032年的预测期内以CAGR 3.4%的速度增长。
市场上的主要参与者包括Applied Materials, SKElectronics, Toppan Photomasks, Photronics, LG INNOTEK, Compugraphics, Toppan Chunghwa Electronics Corporation, Infinite Graphics orporated, NIPPON FILCON, PlasmaTherm, HOYA Corporation, Lasertec Corporation, KLA Corporation, PKL Services, Mycronic, Compugraphics a MacDermid Alpha Electronics Solutions brand, Taiwan Photomask, Qingyi Photomask Limited。
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