Informe de análisis del tamaño, la cuota de mercado y las tendencias del mercado mundial de litografía EUV: descripción general del sector y previsiones hasta 2032

Análisis del mercado de la litografía EUV

El mercado de la litografía ultravioleta extrema (EUV) se ha consolidado como un motor fundamental para el avance de la industria de semiconductores. La litografía EUV permite la producción de microchips más pequeños, eficientes y potentes mediante el uso de una fuente de luz con una longitud de onda de 13,5 nm, lo que posibilita patrones de circuitos más precisos en las obleas. Esta tecnología se ha vuelto indispensable para la fabricación de procesadores avanzados y chips de memoria, esenciales para aplicaciones en los sectores de inteligencia artificial (IA), 5G, IoT y automoción.

Los recientes avances en litografía EUV se han centrado en mejorar la eficiencia y la precisión de los sistemas de alta apertura numérica (NA), lo que permite nodos aún más pequeños. La colaboración entre actores clave como ASML, Intel e Imec ha acelerado la innovación en este campo. Las instalaciones de producción de alto volumen, como la planta de Intel en Irlanda, con una inversión de 18 500 millones de dólares, demuestran la creciente adopción de la tecnología EUV. Asimismo, empresas como Samsung y TSMC han aprovechado la litografía EUV para mantener su liderazgo en la fabricación de semiconductores avanzados.

Ante la creciente demanda de chips más pequeños y de alto rendimiento, el mercado de la litografía EUV está preparado para un crecimiento significativo, desempeñando un papel fundamental en la configuración del futuro de la industria global de semiconductores.

Tamaño del mercado de litografía EUV

El mercado global de litografía EUV se valoró en 11.260 millones de dólares en 2024 y se prevé que alcance los 48.760 millones de dólares en 2032, con una tasa de crecimiento anual compuesta (TCAC) del 20,10 % durante el período de previsión de 2025 a 2032. Además de información sobre el mercado, como su valor, tasa de crecimiento, segmentación, cobertura geográfica y principales actores, los informes de mercado elaborados por Data Bridge Market Research incluyen análisis de expertos, datos de producción y capacidad de las empresas por región geográfica, redes de distribuidores y socios, análisis detallados y actualizados de la evolución de los precios y análisis de la cadena de suministro y la demanda.

Tendencias del mercado de la litografía EUV

“ Aumento de la demanda de semiconductores más pequeños y de alto rendimiento”

El mercado de la litografía EUV está experimentando un rápido crecimiento, impulsado por la creciente demanda de semiconductores más pequeños y de alto rendimiento para aplicaciones como la IA , el 5G y la computación avanzada. Una tendencia notable que está transformando este mercado es la adopción de sistemas de litografía EUV de alta apertura numérica (NA), que permiten la producción de chips con nodos aún más pequeños, mejorando la eficiencia y la funcionalidad de los dispositivos. Por ejemplo, en junio de 2024, ASML e Imec establecieron un laboratorio conjunto de litografía EUV de alta NA, proporcionando una plataforma de vanguardia para el desarrollo de tecnologías de semiconductores de próxima generación. Este avance es crucial, ya que fabricantes como TSMC y Samsung están superando los límites de la miniaturización de chips para mantener su liderazgo. Los sistemas de alta NA también agilizan la producción al reducir la complejidad, lo que ayuda a las fundiciones a satisfacer la creciente demanda de microchips avanzados. A medida que la industria se centra en la innovación y la colaboración, el mercado de la litografía EUV está destinado a convertirse en un pilar fundamental del futuro de la fabricación de semiconductores.

Alcance del informe y segmentación del mercado de litografía EUV    

Definición del mercado de litografía EUV

La litografía ultravioleta extrema (EUV) es una tecnología avanzada de microfabricación utilizada en la fabricación de semiconductores para crear patrones de circuitos complejos en obleas de silicio. Utiliza una fuente de luz con una longitud de onda extremadamente corta de 13,5 nanómetros, lo que permite la producción de transistores más pequeños y con mayor densidad de empaquetamiento en comparación con los métodos de litografía tradicionales.

Dinámica del mercado de litografía EUV

Conductores

• Aumento de la demanda de semiconductores avanzados

El sector automotriz es un motor clave para el mercado global de litografía EUV, debido a la creciente demanda de semiconductores avanzados para vehículos. Los fabricantes de automóviles buscan tecnologías más sofisticadas, y la capacidad de la litografía EUV para producir diseños de chips más pequeños y complejos es esencial para satisfacer estas necesidades. Permite la creación de componentes semiconductores eficientes y de alto rendimiento, fundamentales para mejorar la seguridad, el rendimiento y la funcionalidad de los vehículos modernos. A medida que la industria automotriz evoluciona hacia vehículos más inteligentes, conectados y energéticamente eficientes, el papel de la litografía EUV adquiere una importancia cada vez mayor. Por ejemplo, la presentación del sistema FPA-1200NZ2C de Canon en marzo de 2022, destinado a la producción de chips de 5 nanómetros, refleja el papel crucial de la litografía EUV para el desarrollo de soluciones de semiconductores de vanguardia para aplicaciones automotrices.

•  Rápido crecimiento de la electrónica de consumo

El rápido crecimiento del sector de la electrónica de consumo, impulsado por la creciente demanda de teléfonos inteligentes, wearables y consolas de videojuegos, es un factor clave para el mercado de la litografía EUV. Los chips avanzados utilizados en dispositivos insignia, como el A17 Bionic de Apple (fabricado con el proceso EUV de 3 nm de TSMC) y los procesadores Exynos de Samsung, dependen de la litografía EUV para lograr un rendimiento y una eficiencia energética superiores. A medida que las preferencias de los consumidores se orientan hacia dispositivos 5G y de gama alta, los fabricantes de semiconductores están invirtiendo fuertemente en la tecnología EUV para producir chips más pequeños y eficientes, vinculando así el auge de la electrónica de consumo directamente con la expansión del mercado de la litografía EUV.

Oportunidades

• Aumento de las inversiones gubernamentales

Las inversiones gubernamentales están contribuyendo significativamente al crecimiento del mercado de la litografía EUV. Muchos gobiernos a nivel mundial están incrementando la financiación para la fabricación e investigación de semiconductores con el fin de impulsar sus avances tecnológicos y asegurar una ventaja competitiva en el mercado global. Estas inversiones se centran en facilitar a los fabricantes la adopción de la litografía EUV, que permite la producción de chips de alto rendimiento con dimensiones más reducidas. Como resultado, se está impulsando la adopción acelerada de la tecnología EUV en diversos sectores, fomentando la innovación en industrias como la electrónica, la automoción y la sanidad. Por ejemplo, la iniciativa de ASML en junio de 2022, en colaboración con Mad Science para lanzar la ASL Junior Academy, destaca los esfuerzos por formar a las futuras generaciones de innovadores e ingenieros, apoyando aún más el avance de las tecnologías de semiconductores.

• Aumento de la fabricación avanzada de semiconductores

A medida que la tecnología de semiconductores continúa avanzando, la necesidad de litografía EUV aumenta. Ante la demanda de chips con nodos más pequeños, como 5 nm e inferiores, la litografía EUV resulta esencial para satisfacer estas necesidades. Permite la producción de microchips con características más precisas, mejorando el rendimiento y la eficiencia energética de los dispositivos electrónicos. En enero de 2024, el lanzamiento por parte del Grupo ZEISS de su sistema de litografía EUV de alta apertura numérica (NA) supuso un avance significativo en la fabricación de semiconductores, al respaldar la producción de chips con una precisión sin precedentes. Esta tecnología está ampliando los límites de lo posible en el diseño de chips, permitiendo la creación de dispositivos semiconductores de última generación. Al mejorar las capacidades de los sistemas EUV, ZEISS contribuye al progreso continuo de la tecnología de semiconductores, impulsando el crecimiento y la innovación en el sector.

 Limitaciones/Desafíos

• Altos costos de implementación

El elevado coste de los sistemas de litografía EUV supone un importante obstáculo para su adopción generalizada. El coste de una sola máquina EUV puede superar los 100 millones de dólares, lo que la hace prohibitiva para los pequeños fabricantes y fundiciones de semiconductores. Este alto coste se debe principalmente a la tecnología avanzada y a los complejos componentes necesarios para construir estas máquinas. Además, el número limitado de proveedores en el mercado crea una situación de monopolio que impulsa aún más los precios. A las pequeñas empresas les resulta difícil invertir en equipos tan costosos, lo que concentra el acceso a la tecnología EUV en manos de las grandes empresas y limita la competencia. Esta barrera financiera dificulta el crecimiento de las empresas más pequeñas, lo que podría ralentizar el ritmo de innovación en la industria de los semiconductores.

• Suministro limitado de fuentes EUV

La disponibilidad de fuentes de luz EUV representa otra limitación importante para el crecimiento del mercado de la litografía EUV. Estas fuentes son esenciales para generar la radiación ultravioleta extrema necesaria para el patrón preciso de los chips. Sin embargo, actualmente solo unos pocos fabricantes, como ASML, son capaces de producir estas fuentes de luz altamente especializadas, lo que genera limitaciones de suministro. La escasez de fuentes EUV restringe la adopción generalizada de la litografía EUV en la industria de semiconductores, ralentizando los avances en la producción de chips. El elevado coste y la complejidad que implica el desarrollo y el mantenimiento de estas fuentes de luz agravan aún más los problemas de suministro, limitando el número de empresas que pueden invertir en la tecnología EUV. Esta limitación dificulta el crecimiento general del mercado y retrasa el desarrollo de dispositivos semiconductores de última generación.

Este informe de mercado ofrece detalles sobre los últimos avances, regulaciones comerciales, análisis de importación y exportación, análisis de producción, optimización de la cadena de valor, cuota de mercado, impacto de los actores del mercado locales y nacionales, análisis de oportunidades en términos de nuevos nichos de ingresos, cambios en las regulaciones del mercado, análisis estratégico del crecimiento del mercado, tamaño del mercado, crecimiento del mercado por categoría, nichos de aplicación y su dominio, aprobaciones y lanzamientos de productos, expansiones geográficas e innovaciones tecnológicas. Para obtener más información sobre el mercado, contacte con Data Bridge Market Research para solicitar un informe de análisis. Nuestro equipo le ayudará a tomar una decisión informada para impulsar el crecimiento de su negocio.

Alcance del mercado de la litografía EUV

El mercado se segmenta según la fuente de luz, el equipo y el usuario final. El crecimiento en estos segmentos le permitirá analizar los segmentos de menor crecimiento en las industrias y proporcionará a los usuarios una valiosa visión general del mercado e información clave para la toma de decisiones estratégicas en la identificación de las principales aplicaciones del mercado.

Fuente de luz

• Plasmas producidos por láser (LPP)
• Chispas de vacío
• Descarga de gas

Equipo

• Fuente de luz
• Óptica
• Mascarilla
• Otros

Usuario final

• Fabricante de dispositivos integrados (IDM)
• Memoria
• Fundición
• Otros

Análisis regional del mercado de litografía EUV

Se analiza el mercado y se proporcionan datos sobre el tamaño del mercado y las tendencias por país, fuente de luz, equipo y usuario final, como se mencionó anteriormente.

Los países cubiertos en el informe de mercado son Estados Unidos, Canadá y México en América del Norte; Alemania, Francia, Reino Unido, Países Bajos, Suiza, Bélgica, Rusia, Italia, España, Turquía y el resto de Europa en Europa; China, Japón, India, Corea del Sur, Singapur, Malasia, Australia, Tailandia, Indonesia, Filipinas y el resto de Asia-Pacífico (APAC) en Asia-Pacífico (APAC); Arabia Saudita, Emiratos Árabes Unidos, Sudáfrica, Egipto, Israel y el resto de Oriente Medio y África (MEA) como parte de Oriente Medio y África (MEA); Brasil, Argentina y el resto de Sudamérica como parte de Sudamérica.

Se prevé que Norteamérica domine el mercado, impulsada por la presencia de algunos de los principales fabricantes de equipos semiconductores del mundo, como ASML. Si bien ASML es una empresa neerlandesa, tiene una presencia significativa en Estados Unidos, donde desempeña un papel crucial en el mercado de equipos de litografía EUV. Sus actividades de investigación, desarrollo y producción en Estados Unidos refuerzan aún más el liderazgo de la región en litografía EUV.

La región de Asia-Pacífico es el mercado de mayor crecimiento, impulsado por el notable auge de la industria de semiconductores, especialmente en países como Taiwán, Corea del Sur y China. Esta región alberga a numerosos fabricantes y fundiciones líderes de semiconductores. Ante la creciente demanda de dispositivos semiconductores más pequeños y avanzados, la adopción de la tecnología de litografía EUV se ha disparado para satisfacer estas necesidades en constante evolución.

La sección del informe dedicada a cada país también proporciona información sobre los factores que influyen en el mercado y los cambios en la normativa nacional que afectan a las tendencias actuales y futuras. Para pronosticar el panorama del mercado en cada país, se utilizan datos como el análisis de la cadena de valor (tanto aguas arriba como aguas abajo), las tendencias tecnológicas, el análisis de las cinco fuerzas de Porter y estudios de caso. Asimismo, se consideran la presencia y disponibilidad de marcas globales y los retos a los que se enfrentan debido a la competencia (ya sea intensa o escasa) de marcas locales y nacionales, así como el impacto de los aranceles y las rutas comerciales nacionales.  

Cuota de mercado de la litografía EUV

El análisis del panorama competitivo del mercado ofrece información detallada por competidor. Esta información incluye: descripción general de la empresa, datos financieros, ingresos generados, potencial de mercado, inversión en investigación y desarrollo, nuevas iniciativas de mercado, presencia global, plantas e instalaciones de producción, capacidad de producción, fortalezas y debilidades, lanzamientos de productos, amplitud y profundidad de la gama de productos y dominio de aplicaciones. Los datos proporcionados se refieren exclusivamente al enfoque de las empresas en relación con el mercado.

Los líderes del mercado de litografía EUV que operan en el mercado son:

• Cannon Inc. (Japón)
• ASML (Países Bajos)
• Nuflare Technology Inc. (Japón)
• SAMSUNG (Corea del Sur)
• Corporación Intel (EE. UU.)
• Corporación Nikon (Japón)
• SUSS Microtec SE (Alemania)
• Compañía de Fabricación de Semiconductores de Taiwán Limitada (Taiwán)
• Ultratech Inc. (EE. UU.)
• Vistec Electron Beam GmbH (Alemania)
• Zeiss International (Alemania)
• Toppan Printing Co. Ltd. (Japón)
• Corporación de Tecnología Avanzada NTT (Japón)
• Toshiba India Pvt. Ltd. (India)
• Fundiciones globales (EE. UU.)

Últimos avances en el mercado de la litografía EUV

• En junio de 2024, ASML e Imec establecieron un laboratorio conjunto de litografía EUV de alta apertura numérica (NA), creando una plataforma de desarrollo inicial para el ecosistema de semiconductores avanzados. Esta colaboración representa un paso fundamental para que la litografía EUV de alta NA esté lista para la fabricación a gran escala.
• En marzo de 2022, Intel anunció el inicio de la producción en serie utilizando máquinas de litografía EUV en su nueva planta de 18.500 millones de dólares en Irlanda. Este hito pone de manifiesto la capacidad de Intel para fabricar semiconductores avanzados a gran escala con tecnología EUV, un paso fundamental para recuperar su posición competitiva frente a rivales como TSMC y Samsung.
• En enero de 2022, ASML e Intel Corporation iniciaron una nueva fase de su larga colaboración para impulsar la tecnología de litografía de semiconductores. Esta colaboración se centra en mejorar los sistemas de litografía de última generación, acelerando el desarrollo de microchips cada vez más complejos y eficientes.
• En octubre de 2021, Samsung Electronics inició la producción en masa de chips DRAM de 14 nanómetros utilizando tecnología de litografía EUV. Este avance permite diseños de circuitos más precisos en comparación con la litografía láser ArF tradicional, consolidando el liderazgo de Samsung en soluciones de memoria avanzadas para dispositivos electrónicos modernos.
• En marzo de 2021, Samsung Electronics intensificó sus esfuerzos para producir escáneres EUV, con el objetivo de fortalecer su posición competitiva frente a TSMC. Estos escáneres avanzados agilizan la fabricación de chips al reducir los pasos de fotolitografía , lo que refleja el compromiso de Samsung con las tecnologías de semiconductores de próxima generación.

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