Анализ размера, доли и тенденций мирового рынка EUV-литографии – Обзор отрасли и прогноз до 2032 года

Анализ рынка EUV-литографии

Рынок экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии стал важнейшим драйвером развития полупроводниковой промышленности. EUV-литография позволяет производить более компактные, эффективные и мощные микросхемы, используя источник света с длиной волны 13,5 нм, что позволяет создавать более тонкие схемы на пластинах. Эта технология стала незаменимой для производства современных процессоров и микросхем памяти, которые играют ключевую роль в приложениях в области искусственного интеллекта, 5G, Интернета вещей и автомобильной промышленности.

Недавние достижения в области EUV-литографии были направлены на повышение эффективности и точности систем с высокой числовой апертурой (NA), что позволило уменьшить размеры узлов. Сотрудничество между ключевыми игроками, такими как ASML, Intel и Imec, ускорило инновации в этой области. Крупносерийные производственные мощности, такие как завод Intel стоимостью 18,5 млрд долларов США в Ирландии, демонстрируют растущее внедрение EUV-технологии. Тем временем, такие компании, как Samsung и TSMC, используют EUV-литографию для сохранения своего лидерства в производстве передовых полупроводников.

В связи с ростом спроса на более мелкие, но высокопроизводительные микросхемы рынок EUV-литографии готов к значительному росту и сыграет ключевую роль в формировании будущего мировой полупроводниковой промышленности.

Размер рынка EUV-литографии

Объем мирового рынка EUV-литографии в 2024 году оценивался в 11,26 млрд долларов США, а к 2032 году, по прогнозам, он достигнет 48,76 млрд долларов США, при среднегодовом темпе роста 20,10% в прогнозируемый период с 2025 по 2032 год. Помимо информации о рыночных сценариях, таких как рыночная стоимость, темпы роста, сегментация, географический охват и основные игроки, отчеты о рынке, подготовленные Data Bridge Market Research, также включают в себя углубленный экспертный анализ, географически представленные данные о производстве и мощностях компаний, схемы сетей дистрибьюторов и партнеров, подробный и обновленный анализ ценовых тенденций и анализ дефицита цепочки поставок и спроса.

Тенденции рынка EUV-литографии

« Растущий спрос на более компактные, высокопроизводительные полупроводники»

Рынок литографии EUV переживает бурный рост, обусловленный растущим спросом на более мелкие, высокопроизводительные полупроводники в таких приложениях, как искусственный интеллект , 5G и передовые вычисления. Заметной тенденцией, формирующей этот рынок, является внедрение систем литографии EUV с высокой числовой апертурой, которые позволяют производить чипы с еще меньшими узлами, повышая эффективность и функциональность устройств. Например, в июне 2024 года ASML и Imec создали совместную лабораторию литографии EUV с высокой числовой апертурой, предоставляющую передовую платформу для разработки полупроводниковых технологий следующего поколения. Это достижение имеет решающее значение, поскольку такие производители, как TSMC и Samsung, раздвигают границы миниатюризации чипов, чтобы сохранить свое лидерство. Системы с высокой числовой апертурой также оптимизируют производство за счет снижения сложности, помогая литейным заводам удовлетворять растущий спрос на передовые микрочипы. Поскольку отрасль фокусируется на инновациях и сотрудничестве, рынок литографии EUV готов стать краеугольным камнем для будущего производства полупроводников.

Область применения отчета и сегментация рынка EUV-литографии    

Определение рынка EUV-литографии

Литография в экстремальном ультрафиолетовом (EUV) диапазоне — это передовая технология микропроизводства, используемая в производстве полупроводников для создания сложных схем на кремниевых пластинах. Она использует источник света с чрезвычайно короткой длиной волны 13,5 нанометров, что позволяет производить транзисторы меньшего размера и с более плотной упаковкой по сравнению с традиционными методами литографии.

Динамика рынка EUV-литографии

Водители

• Повышенный спрос на современные полупроводники

Автомобильный сектор является ключевым драйвером для мирового рынка EUV-литографии, учитывая растущий спрос на передовые полупроводники, используемые в транспортных средствах. Производители автомобилей стремятся к более сложным технологиям, и способность EUV-литографии производить более мелкие и сложные конструкции микросхем имеет решающее значение для удовлетворения этих требований. Она позволяет создавать высокопроизводительные, эффективные полупроводниковые компоненты, которые имеют решающее значение для повышения безопасности, производительности и функциональности современных автомобилей. По мере того, как автомобильная промышленность развивается в сторону более интеллектуальных, подключенных и более энергоэффективных автомобилей, роль EUV-литографии становится все более значимой. Например, выпуск Canon системы FPA-1200NZ2C в марте 2022 года, предназначенной для производства микросхем по 5-нанометровой технологии, отражает важнейшую роль EUV в обеспечении передовых полупроводниковых решений для автомобильных приложений.

•  Быстрый рост потребительской электроники

Стремительный рост сектора потребительской электроники, обусловленный растущим спросом на смартфоны, носимые устройства и игровые устройства, является важным драйвером рынка EUV-литографии. Современные чипы, используемые во флагманских устройствах, таких как Apple A17 Bionic (производимый по 3-нм техпроцессу EUV от TSMC) и процессоры Samsung Exynos, используют EUV-литографию для достижения превосходной производительности и энергоэффективности. Поскольку предпочтения потребителей смещаются в сторону устройств с поддержкой 5G и премиального класса, производители полупроводников активно инвестируют в EUV-технологию для производства более компактных и эффективных чипов, напрямую связывая рост потребительской электроники с расширением рынка EUV-литографии.

Возможности

• Рост государственных инвестиций

Государственные инвестиции вносят значительный вклад в рост рынка EUV-литографии. Многие правительства по всему миру увеличивают финансирование производства и исследований полупроводников, чтобы поддержать свои технологические достижения и обеспечить конкурентоспособность на мировом рынке. Эти инвестиции направлены на то, чтобы дать возможность производителям внедрить EUV-литографию, которая позволяет производить высокопроизводительные микросхемы меньшего размера. В результате наблюдается тенденция к ускорению внедрения EUV-технологии в различных секторах, способствуя инновациям в таких отраслях, как электроника, автомобилестроение и здравоохранение. Например, инициатива ASML, запущенная в июне 2022 года совместно с Mad Science по запуску ASL Junior Academy, подчеркивает усилия по воспитанию будущих поколений новаторов и инженеров, что вносит дополнительный вклад в развитие полупроводниковых технологий.

• Расширение производства передовых полупроводников

По мере развития полупроводниковых технологий растёт потребность в EUV-литографии. В связи с растущим спросом на микросхемы с более мелкими узлами, такими как 5 нм и ниже, EUV-литография играет ключевую роль в удовлетворении этих требований. Она позволяет производить микросхемы с более мелкими элементами, повышая производительность и энергоэффективность электронных устройств. Запуск компанией ZEISS Group в январе 2024 года системы EUV-литографии с высокой числовой апертурой (High-NA) ознаменовал собой значительный прорыв в производстве полупроводников, обеспечив беспрецедентную точность изготовления микросхем. Эта технология расширяет границы возможностей проектирования микросхем, позволяя создавать полупроводниковые приборы следующего поколения. Расширяя возможности EUV-систем, ZEISS вносит свой вклад в дальнейший прогресс в области полупроводниковых технологий, стимулируя рост и инновации в отрасли.

 Ограничения/Проблемы

• Высокие затраты на реализацию

Высокая стоимость систем EUV-литографии представляет собой серьёзное препятствие для их широкого внедрения. Стоимость одной EUV-машины может превышать 100 миллионов долларов США, что делает её чрезмерно дорогой для небольших производителей полупроводников и литейных заводов. Эта высокая стоимость обусловлена, прежде всего, передовыми технологиями и сложными компонентами, необходимыми для создания этих машин. Кроме того, ограниченное число поставщиков на рынке создаёт монопольную ситуацию, которая ещё больше повышает цены. Небольшим компаниям часто сложно инвестировать в столь дорогостоящее оборудование, что консолидирует доступ к EUV-технологии среди крупных компаний и ограничивает конкуренцию. Этот финансовый барьер сдерживает рост небольших игроков, потенциально замедляя темпы инноваций в полупроводниковой отрасли.

• Ограниченное предложение источников EUV

Доступность источников EUV-излучения является ещё одним существенным ограничением для роста рынка EUV-литографии. Эти источники света необходимы для генерации экстремального ультрафиолетового излучения, необходимого для точного формирования рисунка на кристалле. Однако лишь немногие производители, такие как ASML, в настоящее время способны производить эти узкоспециализированные источники света, что приводит к ограничению поставок. Дефицит EUV-источников сдерживает широкое внедрение EUV-литографии в полупроводниковой промышленности, замедляя развитие производства кристаллов. Высокая стоимость и сложность разработки и обслуживания этих источников света ещё больше усугубляют проблемы с поставками, ограничивая количество компаний, способных инвестировать в EUV-технологию. Это ограничение сдерживает общий рост рынка и задерживает разработку полупроводниковых приборов следующего поколения.

В этом отчёте о рынке представлена ​​подробная информация о последних разработках, правилах торговли, анализе импорта-экспорта, анализе производства, оптимизации цепочки создания стоимости, доле рынка, влиянии местных и местных игроков, анализе возможностей с точки зрения новых источников дохода, изменениях в правилах рынка, стратегическом анализе роста рынка, размере рынка, росте рынка по категориям, нишах и доминировании, одобрении продуктов, запуске продуктов, географическом расширении и технологических инновациях на рынке. Чтобы получить дополнительную информацию о рынке, обратитесь в Data Bridge Market Research за аналитическим обзором. Наша команда поможет вам принять обоснованное решение для достижения роста рынка.

Объем рынка EUV-литографии

Рынок сегментирован по источникам света, оборудованию и конечному пользователю. Рост в этих сегментах поможет вам проанализировать сегменты с низким ростом в отраслях и предоставит пользователям ценный обзор рынка и аналитику, которые помогут им принимать стратегические решения для определения основных рыночных приложений.

Источник света

• Лазерная плазма (ЛПП)
• Вакуумные искры
• Газовый разряд

Оборудование

• Источник света
• Оптика
• Маска
• Другие

Конечный пользователь

• Производитель интегрированных устройств (IDM)
• Память
• Литейный завод
• Другие

Региональный анализ рынка EUV-литографии

Проводится анализ рынка и предоставляются сведения о его размерах и тенденциях по странам, источникам света, оборудованию и конечным пользователям, как указано выше.

Страны, охваченные отчетом о рынке: США, Канада и Мексика в Северной Америке, Германия, Франция, Великобритания, Нидерланды, Швейцария, Бельгия, Россия, Италия, Испания, Турция, Остальная Европа в Европе, Китай, Япония, Индия, Южная Корея, Сингапур, Малайзия, Австралия, Таиланд, Индонезия, Филиппины, Остальной Азиатско-Тихоокеанский регион (APAC) в Азиатско-Тихоокеанском регионе (APAC), Саудовская Аравия, ОАЭ, Южная Африка, Египет, Израиль, Остальной Ближний Восток и Африка (MEA) как часть Ближнего Востока и Африки (MEA), Бразилия, Аргентина и Остальная Южная Америка как часть Южной Америки.

Ожидается, что Северная Америка будет доминировать на рынке благодаря присутствию некоторых ведущих мировых производителей полупроводникового оборудования, включая ASML. Хотя ASML — голландская компания, она занимает значительное положение в США, играя ключевую роль на рынке оборудования для EUV-литографии. Научно-исследовательская, опытно-конструкторская и производственная деятельность компании в США ещё больше укрепляет доминирующее положение региона в области EUV-литографии.

Азиатско-Тихоокеанский регион является самым быстрорастущим рынком, чему способствует значительный рост полупроводниковой промышленности, особенно в таких странах, как Тайвань, Южная Корея и Китай. В этом регионе сосредоточены многие ведущие производители полупроводников и литейные заводы. В связи с растущим спросом на более компактные и современные полупроводниковые приборы, внедрение технологии EUV-литографии резко возросло, чтобы удовлетворить эти меняющиеся потребности.

В разделе отчета, посвященном отдельным странам, также рассматриваются факторы, влияющие на рынок, и изменения в регулировании рынка внутри страны, которые влияют на текущие и будущие тенденции рынка. Такие данные, как анализ цепочек создания стоимости в нисходящей и восходящей цепочке, технические тенденции и анализ пяти сил Портера, а также практические примеры, – вот лишь некоторые из показателей, используемых для прогнозирования рыночного сценария для отдельных стран. Кроме того, при анализе прогнозных данных по странам учитываются наличие и доступность глобальных брендов и их проблемы, связанные с высокой или низкой конкуренцией со стороны местных и отечественных брендов, влияние внутренних тарифов и торговых путей.  

Доля рынка EUV-литографии

В разделе «Конкурентная среда рынка» представлена ​​подробная информация по конкурентам. В неё включены сведения о компании, её финансовые показатели, полученная выручка, рыночный потенциал, инвестиции в исследования и разработки, новые рыночные инициативы, глобальное присутствие, производственные площадки и объекты, производственные мощности, сильные и слабые стороны компании, запуск продукта, широта и разнообразие продуктов, доминирующие области применения. Представленные выше данные относятся только к рыночным интересам компаний.

Лидерами рынка EUV-литографии являются:

• Cannon Inc. (Япония)
• ASML (Нидерланды)
• Nuflare Technology Inc. (Япония)
• SAMSUNG (Южная Корея)
• Корпорация Intel (США)
• Корпорация Nikon (Япония)
• SUSS Microtec SE (Германия)
• Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited (Тайвань)
• Ultratech Inc. (США)
• Vistec Electron Beam GmbH (Германия)
• Zeiss International (Германия)
• Toppan Printing Co. Ltd. (Япония)
• NTT Advanced Technology Corporation (Япония)
• Toshiba India Pvt. Ltd. (Индия)
• Global Foundries (США)

Последние разработки на рынке EUV-литографии

• В июне 2024 года ASML и Imec создали совместную лабораторию EUV-литографии с высокой числовой апертурой (ЧА), создав платформу для ранних разработок в области передовой полупроводниковой экосистемы. Это сотрудничество знаменует собой важный шаг на пути к тому, чтобы сделать высокочиповую EUV-литографию готовой к масштабному производству.
• В марте 2022 года компания Intel объявила о начале крупносерийного производства с использованием оборудования EUV-литографии на своём новом предприятии в Ирландии стоимостью 18,5 млрд долларов США. Это достижение подчёркивает способность Intel производить передовые полупроводники в больших масштабах с использованием технологии EUV, что является важным шагом на пути к восстановлению конкурентоспособности компании по сравнению с такими конкурентами, как TSMC и Samsung.
• В январе 2022 года ASML и корпорация Intel вступили в новый этап своего многолетнего партнерства по развитию технологий полупроводниковой литографии. Это сотрудничество направлено на совершенствование современных литографических систем, ускоряя разработку всё более сложных и эффективных микросхем.
• В октябре 2021 года компания Samsung Electronics начала массовое производство 14-нанометровых микросхем DRAM с использованием технологии EUV-литографии. Этот прорыв позволяет создавать более качественные схемы по сравнению с традиционной литографией на основе ArF-лазера, укрепляя лидерство Samsung в области передовых решений памяти для современных электронных устройств.
• В марте 2021 года компания Samsung Electronics активизировала усилия по производству сканеров EUV, стремясь укрепить свои конкурентные позиции по сравнению с TSMC. Эти передовые сканеры оптимизируют производство микросхем за счёт сокращения этапов фотолитографии , что отражает приверженность Samsung технологиям полупроводников нового поколения.

SKU-70354