글로벌 극자외선 리소그래피 시장 규모, 점유율 및 추세 분석 보고서 – 산업 개요 및 2032년까지의 예측

극자외선 리소그래피 시장 분석

글로벌 극자외선(EUV) 리소그래피 시장은 첨단 반도체 소자 수요 증가와 미세 공정 노드로의 전환으로 인해 견조한 성장을 보이고 있습니다. EUV 리소그래피는 나노미터 단위의 정밀도로 칩을 생산할 수 있는 최첨단 기술로, 인공지능 (AI), 5G, 고성능 컴퓨팅 분야에 필수적입니다. 반도체 산업의 주요 업체, 특히 통합소자제조업체(IDM)와 파운드리 업체들은 칩 밀도, 성능, 에너지 효율을 향상시키기 위해 EUV 리소그래피를 도입하고 있습니다. 또한, 광원, 광학 장치, 마스크 등 EUV 장비의 지속적인 발전은 혁신을 주도하고 시스템 처리량과 신뢰성을 향상시키고 있습니다.

극자외선 리소그래피 시장 규모

글로벌 극자외선 리소그래피 시장은 2024년에 65억 2천만 달러 규모로 평가되었으며, 2032년까지 142억 6천만 달러 규모로 성장하여 2025년부터 2032년까지의 예측 기간 동안 9.20%의 CAGR로 성장할 것으로 예상됩니다. Data Bridge Market Research에서 큐레이팅한 시장 보고서에는 시장 가치, 성장률, 세분화, 지리적 범위, 주요 업체와 같은 시장 시나리오에 대한 통찰력 외에도 심층적인 전문가 분석, 지리적으로 대표되는 회사별 생산 및 용량, 유통업체 및 파트너의 네트워크 레이아웃, 상세하고 업데이트된 가격 추세 분석, 공급망 및 수요의 부족 분석이 포함됩니다.

극자외선 리소그래피 동향

“AI, 5G에 최적화된 칩 수요 증가”

EUV 리소그래피 시장은 높은 개구수(NA) 시스템으로 전환되고 있으며, 이를 통해 3nm 미만의 반도체 노드 생산이 가능해지고 있습니다. AI, 5G, 고성능 컴퓨팅에 최적화된 칩에 대한 수요 증가가 시장 성장을 촉진하고 있습니다. 파운드리와 장비 공급업체 간의 전략적 협력은 EUV 시스템 도입을 가속화하고 있습니다. 광원 효율 향상 및 마스크 결함 관리 개선을 위한 R&D 투자도 지속되고 있습니다. 아시아 태평양 지역은 중국, 대만, 한국의 반도체 제조 시설 확장으로 EUV 시스템 도입이 빠르게 증가하고 있습니다.

보고서 범위 및 극자외선 리소그래피 시장 세분화         

극자외선 리소그래피 시장 정의

EUV 리소그래피 시장은 13.5nm 파장의 극자외선을 사용하는 첨단 반도체 제조에 중점을 두고 있습니다. EUV 기술은 7nm 이하 노드의 초소형, 고에너지 효율 칩 생산에 필수적이며, 고성능 컴퓨팅, AI, 5G 애플리케이션을 구현합니다. 이 시장은 탁월한 정밀도 달성, 공정 복잡성 감소, 그리고 반도체의 더 높은 트랜지스터 밀도 지원이 특징입니다. 주요 파운드리와 통합 반도체 제조업체(IDM)의 EUV 시스템 도입 증가는 이 시장의 상당한 성장을 견인하고 있습니다.

극자외선 리소그래피 시장 동향

운전자  

• 7nm 이하 노드로의 전환

전 세계 반도체 산업이 7nm 이하 노드로 전환하는 것은 EUV 리소그래피의 핵심 동력입니다. 이러한 소형 노드는 더 높은 트랜지스터 밀도, 향상된 성능, 그리고 더 낮은 전력 소비를 제공합니다. EUV 시스템은 이러한 첨단 노드에 필요한 정밀 패터닝을 가능하게 하여 현대 칩 제조에 필수적입니다. AI, 5G, 데이터 센터 분야의 애플리케이션은 EUV 수요를 더욱 증가시키고 있습니다. TSMC와 삼성과 같은 파운드리 업체들은 경쟁력 유지를 위해 EUV 시스템 도입을 선도하고 있습니다.

• 반도체 제조 공장에 대한 투자 증가

전 세계적으로 반도체 제조 공장(팹)에 대한 대규모 투자가 EUV 시스템 수요를 견인하고 있습니다. 미국과 유럽 등 일부 지역의 정부는 국내 칩 생산을 확대하기 위해 보조금을 지급하고 있으며, 이는 EUV 도입 기회를 창출하고 있습니다. 이러한 팹은 핵심 애플리케이션을 위한 고성능 반도체 생산을 위한 첨단 리소그래피 솔루션을 우선시합니다. 또한, 인텔과 글로벌파운드리와 같은 파운드리와 협력하는 팹리스 기업의 증가는 EUV 시스템에 대한 수요를 더욱 확대하고 있습니다.

기회

• 고NA EUV 시스템 기술 개발

높은 개구수(NA)를 가진 EUV 시스템 개발은 상당한 성장 기회를 제공합니다. 이러한 시스템은 더 작은 노드에서도 더 높은 정밀도와 효율성을 구현하도록 설계되어 현재 EUV 기술의 한계를 극복합니다. 높은 개구수(NA) 시스템은 3nm 미만 및 2nm 미만 제조에 필수적일 것으로 예상됩니다. ASML과 같은 선도적인 장비 공급업체들은 차세대 반도체 기술 발전에 발맞춰 높은 개구수(NA) R&D에 막대한 투자를 하고 있습니다.

• AI 기반 칩에 대한 수요

다양한 산업 분야에서 인공지능(AI)의 급속한 도입은 EUV 리소그래피를 사용하여 제조되는 첨단 칩에 대한 수요를 견인하고 있습니다. AI 워크로드는 더 높은 트랜지스터 밀도와 최적화된 아키텍처를 갖춘 반도체를 필요로 하며, EUV 시스템은 이를 지원합니다. 이러한 수요는 자율주행차, 의료, 산업 자동화 등 다양한 산업에 걸쳐 있습니다. AI 도입이 가속화됨에 따라 EUV 시스템을 활용하는 파운드리는 경쟁 우위를 확보하게 됩니다.

제약/도전

• EUV 리소그래피의 기술적 복잡성

EUV 리소그래피는 광원 전력 제한, 마스크 결함, 오버레이 정확도 등 여러 기술적 과제에 직면해 있습니다. 이러한 문제들은 생산 공정을 복잡하게 만들고 제조업체의 운영 비용을 증가시킵니다. 또한, 클린룸 환경과 진공 시스템에 대한 요구는 복잡성을 가중시킵니다. 이러한 과제를 해결하기 위해서는 지속적인 R&D 투자가 필요하며, 이는 소규모 제조업체의 EUV 시스템 확장성을 지연시킵니다.

• EUV 장비의 제한된 가용성

ASML과 같은 EUV 리소그래피 장비 공급업체의 제한된 생산 능력은 주요 제약 요소입니다. 이러한 시스템에 대한 높은 수요는 공급을 앞지르며, 이는 제조업체의 리드타임 연장 및 도입 지연으로 이어집니다. 이러한 병목 현상은 파운드리의 운영 규모 확장 및 첨단 칩 시장 수요 충족 능력에 부정적인 영향을 미칩니다. 특히 소규모 업체들은 주요 반도체 기업들과의 경쟁 속에서 EUV 시스템 확보에 어려움을 겪고 있습니다.

이 시장 보고서는 최근 동향, 무역 규제, 수출입 분석, 생산 분석, 가치 사슬 최적화, 시장 점유율, 국내 및 현지 시장 참여자의 영향, 신규 매출 창출 기회 분석, 시장 규제 변화, 전략적 시장 성장 분석, 시장 규모, 카테고리별 시장 성장, 응용 분야별 틈새 시장 및 시장 점유율, 제품 승인, 제품 출시, 지리적 확장, 시장 기술 혁신 등에 대한 세부 정보를 제공합니다. 시장에 대한 더 자세한 정보를 원하시면 Data Bridge Market Research에 문의하여 분석 브리핑을 요청하십시오. 저희 팀은 시장 성장을 위한 정보에 기반한 시장 결정을 내릴 수 있도록 도와드리겠습니다.

글로벌 극자외선 리소그래피 시장 범위

시장은 장비와 최종 사용자를 기준으로 두 가지 주요 세그먼트로 구분됩니다. 이러한 세그먼트의 성장은 산업 내 저조한 성장 세그먼트를 분석하고, 사용자에게 핵심 시장 애플리케이션을 파악하기 위한 전략적 의사 결정에 도움이 되는 귀중한 시장 개요와 시장 통찰력을 제공합니다.

장비

• 광원
• 광학
• 마스크
• 기타

최종 사용자

• 통합 장치 제조업체(IDM)
• 주조소

글로벌 극자외선 리소그래피 시장 지역 분석

위에 언급된 대로 국가, 장비, 최종 사용자별로 시장을 분석하고 시장 규모에 대한 통찰력과 추세를 제공합니다.

시장에 포함된 국가는 미국, 캐나다, 멕시코, 독일, 프랑스, ​​영국, 네덜란드, 스위스, 벨기에, 러시아, 이탈리아, 스페인, 터키, 기타 유럽 국가, 중국, 일본, 인도, 한국, 싱가포르, 말레이시아, 호주, 태국, 인도네시아, 필리핀, 기타 아시아 태평양 국가, 사우디 아라비아, UAE, 남아프리카 공화국, 이집트, 이스라엘, 기타 중동 및 아프리카 국가, 브라질, 아르헨티나, 기타 남미 국가입니다.

2025년 북미 지역의 EUV 리소그래피 시장 지배력은 반도체 제조 시설에 대한 막대한 투자와 국내 생산 강화를 위한 정부 지원 인센티브에 힘입어 더욱 강화될 것입니다. 인텔과 IBM과 같은 기업들은 7nm 이하 및 3nm 이하 노드 생산에 EUV를 도입하여 혁신을 주도하고 있습니다. 고성능 컴퓨팅 및 AI 애플리케이션 분야에서 북미 지역의 선도적인 입지는 첨단 칩에 대한 강력한 수요를 보장합니다. 또한, ASML과 같은 선도적인 EUV 장비 공급업체와의 파트너십은 기술 도입의 가속화를 촉진합니다.

아시아 태평양 지역은 세계 극자외선(EUV) 리소그래피 시장에서 가장 빠르게 성장하는 지역입니다. 이러한 빠른 성장은 주로 대만과 한국과 같은 국가에 주요 반도체 제조업체들이 진출해 있기 때문입니다. TSMC와 삼성과 같은 기업들은 첨단 반도체에 대한 전 세계 수요 증가에 대응하기 위해 EUV 리소그래피 기술 도입에 적극적으로 참여해 왔습니다.

보고서의 국가별 섹션은 개별 시장 영향 요인과 국내 시장 규제 변화도 제공하며, 이는 현재 및 미래 시장 동향에 영향을 미칩니다. 다운스트림 및 업스트림 가치 사슬 분석, 기술 동향, 포터의 5가지 힘 분석, 사례 연구 등의 데이터 포인트는 개별 국가의 시장 시나리오를 예측하는 데 활용됩니다. 또한, 글로벌 브랜드의 존재 및 가용성, 그리고 국내 및 국내 브랜드와의 경쟁이 심화되거나 부족해짐에 따라 직면하는 과제, 국내 관세 및 무역 경로의 영향 등을 고려하여 국가별 데이터를 예측 분석합니다.

글로벌 극자외선 리소그래피 시장 점유율

시장 경쟁 구도는 경쟁사별 세부 정보를 제공합니다. 여기에는 회사 개요, 회사 재무 상태, 창출된 매출, 시장 잠재력, 연구 개발 투자, 신규 시장 진출, 글로벌 입지, 생산 시설 및 시설, 생산 능력, 회사의 강점과 약점, 제품 출시, 제품 종류 및 범위, 응용 분야별 우위 등이 포함됩니다. 위에 제공된 데이터는 해당 회사의 시장 집중도와 관련된 데이터입니다.

극자외선 리소그래피 시장에서 활동하는 선두주자는 다음과 같습니다.

• ASML Holding NV(네덜란드)
• 캐논 주식회사(일본)
• 니콘 주식회사(일본)
• Carl Zeiss AG(독일)
• 토판 포토마스크 주식회사(미국)
• 삼성전자(주)(한국)
• 대만 반도체 제조 회사(TSMC)(대만)
• 인텔 코퍼레이션(미국)
• 글로벌파운드리(미국)

극자외선 리소그래피 시장의 최신 동향

• 2021년 3월, 삼성은 세계 최대 파운드리인 TSMC와 경쟁할 수 있는 EUV 스캐너 생산을 확대하고 있습니다. 기존 장비와 달리 EUV 스캐너는 미세 회로를 구축하는 데 필요한 포토리소그래피 공정 수를 줄여 칩 제조 공정을 최적화하여 주요 칩 제조업체들이 이 기술을 확보하기 위해 경쟁하도록 만들고 있습니다.
• 2022년 6월, ASML은 Mad Science와 함께 새로운 기술 교육 프로그램을 시작했습니다. ASL 주니어 아카데미는 브레인포트-에인트호번 지역의 271개 초등학교 전체에 기술 교육을 제공할 예정입니다. 즉, Mad Science는 교육 과정을 통해 매년 약 6만 명의 어린이에게 기술을 가르치게 됩니다. ASML 주니어 아카데미는 9월부터 50개 초등학교에서 시작될 예정입니다.

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